中国科学院大连化学物理研究所七十年代开创了“超纯气体分析与设备科研“领域，研究方向为制取超纯气体所需的脱氧剂、催化剂、吸附剂及其相关的净化工艺及设备。

SMT-S氧化锌脱硫剂的主体成分为活性氧化锌，添加特殊活性组分。适用于氢气、合成气、天然气、乙炔气、石油气、氨气、CO2等气相原料及丙烯、液态烃、重整原料、喷气燃料等液相原料中的精脱硫。该脱硫剂不仅能吸收原料中大量的无机硫，而且也能吸收一些简单的有机硫化物。

钯炭及铂炭催化剂在石油化工、精细化工和有机合成中有着广泛的用途，特别是在制药工业中更为重要。现在，除用于维生素E中间体加氢过程外，还用于卡那霉素、强力霉素、布卡因以及青霉烷砜纳等药物的合成过程。在香料工业中，如新洋茉莉醛、铃兰醛和人造麝香等生产中也使用该催化剂啊，此外，钯炭催化剂还在松香岐化和松香氢化过程中有着广泛的应用。

F-10型NOX催化净化剂采用非贵金属为原料，具有活性高、操作度大，寿命长等特点，主要应用于消除硝酸厂及某些使用硝酸和硝酸盐工厂的驰放气，工业炉灶烟道气及内燃机尾气中的NOX，经过净化的气体中的有害物质NOX低于国家排放标准。

SMT-OS水解催化剂的主体成分为活性氧化铝，添加特殊活性组分。适用于转化氢气、合成气、天然气、石油气、二氧化碳等气相原料和丙烯、液态烃、重整原料、喷气燃料等液相原料中的有机硫，使之转化成为H2S，再使用SMT-S型氧化锌脱硫剂，将H2S除掉。

SMT-As新型脱砷剂属铜系脱砷剂，主要用于聚丙烯工业生产中脱除液相丙烯中的微量砷。还可用于烯烃类原料脱砷，具有脱砷效果好，脱砷容量大，使用方便等特点。

全自动氮气纯化设备 纯化指标： Ｎ2≥99.99999％ O2≤0.01ppm H2 O≤0.01 ppm（-101℃） C O2≤0.01 ppm C O≤0.01 ppm CH4≤0.01 ppm H2 ≤0.01 ppm 颗粒≤0.01μm 工作压力：0.5～20Mpa 产品标准：Q/DSM·020-2005 设备特点 净化纯度高：采用专利气体净化催化剂，ppb级气体净化 性能可靠：采用洁净阀门

大连圣迈化学有限公司为中国科学院大连化学物理研究所控股的大连市高新技术企业，主要从事催化剂技术、超纯气体净化装置、功能材料的研制与开发。公司所属气体净化部，从60年代末在国内率先在国内进行超高纯气体分析、制备领域的研究，三十余年来，共取得省部级以上科研成果三十余项，其中国家级成果四项，申请专利十八项。研制了多种气体催化净化及PSA气体提纯技术。所研制的产气纯度达99.99999%的氮、氢、氩气净化设备已在电子、气体、冶金、化工等多个行业得到成功应用。 具体资料请登录我们的网站：http://cntcw.com/smt/ 或致电：13804245700 侯经理 04

HON-UPA全自动超纯氧气净化装置 纯化指标

从焦炉煤气、合成氨尾气、变换石油化工尾气等多种不同气源出发，量身设计PSA(VPSA)工艺流程和配套处理、净化流程装置控制采用DCS控制系统，操作简便。装置主要部件均采用进口部件，性能可靠。

根据客户不同的工艺情况，采用多种技术联用，对多种气体进行净化处理，从多种气源出发，制取高纯、超纯气体，满足石油化工，冶金等大工业生产的需要。

净化纯度高：对氮、氢、氩等气体净化纯度可达99.99995%，可满足普遍性的科研用气需要。 实用性强：自带失效指示及再生装置，可多次活化反复使用。

色谱载气净化以及研究机构少量气体超纯的净化.适用于N2,He,H2,Ar等气体净化．

圣迈化学的精制氮设备产品气为≥99.99995％，适用于高纯单晶硅的冶炼、晶片外延、大规模集成电路生产光电产业的研制与生产; 冶金冷轧板保护气体制备; 石油化工生产用保护气体净化; 标准气体、高纯气体生产行业。

PEN型脱氧剂为401锰型系列，低价态的锰的氧化物，对微量O2活性很高，常温常压下可与O2反应生成高价的氧化物，可使气体中残余O2量≤0.1×10-6V/V。其特征为应用广泛可用于多种气体脱O2；机械强度高，大规模工业应用不粉化流失；可反复再生使用，活性不变；使用寿命长等。

PPP型脱氧剂最显著的特征为：对具有不稳定双键的丙烯，不产生加成、聚合、氧化等副反应。因而为液相丙烯专用型脱氧剂；PPP型对H2弱吸附，用H2活化再生后，被吸附H2很少，丙烯投运时不产生激烈的加氢反应造成飞温，安全可靠；脱氧深度深，脱氧容量大，使用寿命长也为其特征。

DQ型高效脱氧管由硬质玻璃管及透明的有机玻璃保护套组成，两头为M8×1的螺帽，便于无氧渗漏的金属管道连接。

大连圣迈化学有限公司是中国科学院大连化学物理研究所所控股的大连市高新技术企业，主要从事催化剂和吸附剂的生产和技术服务、超纯气体净化装置与材料的研制与开发。公司所属气体净化部，从60年代末在国内率先进行超高纯气体分析、设备领域的研究。

适用范围 电子工业保护气，冶金、冷轧板保护气体设备，石油化工生产用保护气体净化，标准气体，高纯气体生产等行业。

高纯单晶硅的冶炼、晶片外延，大规模集成电路生产光电产业的研制与生产，石油化工生产气体净化，标准气体，高纯气体生产行业。